Ultra high precision electron beam lithography system
Titel
Ultra high precision electron beam lithography system
Signatur
AP 2b 3-6-9/2/37
Stufe
Dokument
Entstehungszeitraum
2021.12.1
Archivalienart
Akte
Schutzfristkategorie
Ordentliche Schutzfrist
Bewilligung
Gemäss Archivgesetz BS
Schutzfrist
Zeitraumende
Schutzfristdauer
30
Ende der Schutzfrist
12/31/2051
Zugänglichkeit
Freigegeben für Online-Zugänglichkeit
Status Urheberrecht
Staatsarchiv Basel-Stadt: Die urheberrechtlichen Nutzungsrechte liegen beim Staatsarchiv Basel-Stadt.
Physische Benutzbarkeit
Digitales Archivgut
Physische Beschaffenheit
Die Verzeichnungseinheit umfasst ausschliesslich digitale Unterlagen.